公司簡介： 
    晶華石英光電股份有限公司，于1997年成立，為國內第一家生產石英晶體組件之制造商，也是第一家自行設計并生產供應光學低通濾波芯片的廠商。產品范圍涵蓋CCD、CMOS所使用之OLPF(光學低通濾波器)－應用于數碼相機、手機和監視器等, 也涵蓋石英震蕩器之電子級晶棒材料(應用于消費性、通信及信息產品)及光通訊鍍膜光學組件。
    本公司除了專注于光學組件的研發與生產，也是臺灣第一家引進離子輔助電子束膜系統設備及鍍膜技術的廠家，為光通訊精密鍍膜技術之指針。本公司經營團隊結合了光學界、光學鍍膜界與石英加工技術之精英人才，一向以技術為本位提供優質產品與服務，深獲國內外業界各廠商的好評。
    2000年公司在無錫建廠，取名 晶華光電(無錫)有限公司。登記資本額1000萬美元,實收資本額796.6萬美元,總投資金額1991萬美元。土地總面積30,292平方米。建物面積，長晶廠3,700平方米，光學廠5,869平方米，辦公樓1,250平方米。
    產品主要分為二大類，一是人工水晶，包含電子設備使用之電子級晶棒以及光學用途之光學晶棒。一是光學晶片，范圍涵蓋多種光學元件，包含了數碼相機、監控用攝像機、電腦攝像頭等各種影像輸入設備所使用之光學低通濾波器(OLPF)及紅外截止濾光片(IR-Cut Filter)，以及DWDM、CWDM、Edge Filter等應用于光通訊之光學元件，及應用于DVD、數位投影機、背投電視等多種設備所使用之光學元件及其它專業鍍膜之光學元件。   
關鍵技術來源：
石英晶體材料:
   晶華光電之長晶技術是由日本希華株式會社(原名電株式會社)技術轉移而得。
公司相關歷史沿革：
1995年  開發光學低通濾波元件，并取得臺灣專利權第359369號
1997年  設立韋晶科技－臺灣廠
1998年  引進德國離子輔助電子束光學鍍膜機
1999年  開發光通訊元件，高密度波長多工器
2000年  設立晶華光電－無錫廠(“晶華光電無錫有限公司”)
2001年  通過ISO-9001認證
2003年  變更臺灣公司名稱為“晶華石英光電股份有限公司”
2004年  成立晶華光電駐深圳辦事處
2005年  通過ISO-14000認證